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结论

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?目(mu)前(qian)的半导体设备国产化(hua)率(lv)仍(reng)處(chu)於(yu)非(fei)線(xian)性(xing)增(zeng)長(chang)區(qu)間(jian),未(wei)來(lai)国产设备有(you)望(wang)加(jia)速(su)滲(shen)透(tou)。

文(wen)/每(mei)日(ri)財(cai)報(bao) 蘇(su)鋒(feng)

2019 年(nian)-2021年,受(shou)到(dao)下(xia)遊(you)應(ying)用(yong)需(xu)求(qiu)的驅(qu)動(dong)以(yi)及(ji)疫(yi)情(qing)對(dui)行(xing)業(ye)供(gong)需關(guan)系(xi)的影(ying)響(xiang),全(quan)球(qiu)半导体设备市(shi)場(chang)經(jing)歷(li)了(le)壹(yi)輪(lun)高(gao)景(jing)氣(qi)周(zhou)期(qi)。

2022年,半导体设备市场規(gui)模(mo)有望再(zai)創(chuang)新(xin)高,根(gen)據(ju)SEMI的數(shu)据,2022年,全球半导体设备銷(xiao)售(shou)額(e)有望達(da)1143.4億(yi)美(mei)元(yuan),同(tong)比(bi)增长11.24%。

佩(pei)洛(luo)西(xi)竄(cuan)臺(tai),令(ling)台海(hai)局(ju)勢(shi)升(sheng)溫(wen)。半导体国产替(ti)代(dai)也(ye)再次(ci)被(bei)熱(re)議(yi)。

产能(neng)转移(yi)

中(zhong)国大(da)陸(lu)是(shi)全球最(zui)大的電(dian)子(zi)終(zhong)端(duan)消(xiao)費(fei)市场和(he)半导体销售市场,吸(xi)引(yin)著(zhu)(zhe)全球半导体产业向(xiang)大陆的遷(qian)移。從(cong)产业鏈(lian)配(pei)套(tao)層(ceng)面(mian)来看(kan),在(zai)中游晶(jing)圓(yuan)制(zhi)造(zao)環(huan)節(jie),中国具(ju)备成(cheng)為(wei)全球最大晶圆产能基(ji)地(di)的潛(qian)力(li)。特(te)別(bie)是在中国打(da)造制造強(qiang)国的戰(zhan)略(lve)下,政(zheng)府(fu)在产业政策(ce)、稅(shui)收(shou)、人(ren)才(cai)培(pei)養(yang)等(deng)方(fang)面大力支(zhi)持(chi)和推(tui)進(jin)本(ben)土(tu)半导体制造的规模化和高端化。

近(jin)年来,中美貿(mao)易(yi)摩(mo)擦(ca)凸(tu)顯(xian)出(chu)供应链安(an)全和自(zi)主(zhu)可(ke)控(kong)的重(zhong)要(yao)性和急(ji)迫(po)性,晶圆制造及其(qi)配套设备等产业环节作(zuo)为半导体产业的基石(shi),加速發(fa)展(zhan)势在必(bi)行。因(yin)此(ci),在市场、国家(jia)战略、产业自主可控等多(duo)重因素(su)的驱动下,中国大陆晶圆产能在未来一段(duan)時(shi)间內(nei)仍处于快(kuai)速擴(kuo)張(zhang)期,且(qie)增速显著高于全球平(ping)均(jun)水(shui)平。

根据IC Insights的数据,2021年,全球晶圆产能約(yue)2160萬(wan)片(pian)/月(yue)(8寸(cun)约當(dang)),同比增长3.78%,中国大陆晶圆产能350万片/月(8寸约当),同比增长9.92%,在全球的占(zhan)比约16.2%。根据SIA的数据,伴(ban)隨(sui)着中国大陆晶圆产能的持續(xu)快速扩张,2030年,大陆晶圆产能在全球的占比有望达24%,屆(jie)时將(jiang)成为全球最大的晶圆产能区域(yu)市场。

根据中国电子專(zhuan)用设备工(gong) 业協(xie)會(hui)的数据,2021年,国产半导体设备销售额为385.5亿元,同比增长58.71%, 占中国大陆半导体设备销售额的比例(li)为20.02%。2022 年1-6月開(kai)標(biao)的548 台设备中,源(yuan)自中国大陆廠(chang)家制造的设备共(gong)計(ji)189台,占比达34.5%。

内資(zi)晶圆产线仍然(ran)是国产半导体设备的消费主力,从遠(yuan)期内资晶圆产线的建(jian)设情況(kuang)来看,国产半导体设备的需求前景更(geng)为樂(le)觀(guan)。根据各(ge)公(gong)司(si)官(guan)網(wang)的不(bu)完(wan)全統(tong)计,目前,内资晶圆产线的總(zong)产能约为162.5万片/月(8寸约当),而(er)各條(tiao)产线的规劃(hua)总产能约为454.5万片/月(8寸约当),現(xian)有产能距(ju)规划产能仍有較(jiao)大的扩充(chong)空(kong)间,因此,内资晶圆产能的大幅(fu)扩张,有望为国产半导体设备公司帶(dai)来廣(guang)闊(kuo)的訂(ding)單(dan)增量(liang)。

以半导体晶圆制造设备为例,当前的国产设备对28nm及以上(shang)制程(cheng)的工藝(yi)覆(fu)蓋(gai)度(du) 日趨(qu)完善(shan),並(bing)積(ji)極(ji)推进14nm及以下制程的工艺突(tu)破(po),产品(pin)正(zheng)处于驗(yan)證(zheng)密(mi)集(ji)通(tong)過(guo)、开 啟(qi)规模化起(qi)量的成长階(jie)段。各大半导体设备厂商(shang)基于产品上线量产的契(qi)機(ji), 也在與(yu)客(ke)戶(hu)密切(qie)开展工艺设备的合(he)作研(yan)发、已(yi)有产品的叠(die)代和細(xi)分(fen)新品類(lei)的扩充,利(li)于产品競(jing)爭(zheng)力和市场拓(tuo)展的繼(ji)续深(shen)入(ru)。

所(suo)以,目前的半导体设备国产化率仍处于非线性增长区间,未来国产设备有望加速渗透。假(jia)设2025年,該(gai)统计口(kou)徑(jing) 下的中国大陆半导体设备市场的国产化率提(ti)升至(zhi)50%,則(ze)2021-2025年,国产半导体设备销售额的CAGR近30%。

抓(zhua)住(zhu)核(he)心(xin)环节

半导体工序(xu)催(cui)生(sheng)出眾(zhong)多的半导体设备类型(xing),从矽(gui)片制造、芯(xin)片设计、晶圆制造、封(feng)裝(zhuang)和測(ce)試(shi),配套的半导体设备品类多元,各個(ge)領(ling)域间具备较高的技(ji)術(shu)和市场壁(bi)壘(lei)。

从半导体设备市场的品类来看,晶圆制造设备占据了主要的市场份(fen)额,其次是 测试设备和封装设备。根据SEMI的数据,2022年,全球晶圆制造设备的市场规模有望达988.8亿美元,同比增长12.35%,测试设备市场规模有望达81.7亿美元,同比增长4.88%,封装设备市场规模有望达72.9亿美元,同比增长4.29%,三(san)者(zhe)在全球半导体设备市场的占比分别为86.48%、7.15%和6.38%。

在晶圆制造设备市场,沈(chen)积、刻(ke)蝕(shi)、光(guang)刻设备的市场规模穩(wen)居(ju)前三位(wei)。根据Gartner的数据,2022年,刻蚀、沉积、光刻设备的市场占比分别为 22%、20%和19%。

在具体公司层面,以北(bei)方華(hua)创、中微(wei)公司、盛(sheng)美上海为代表(biao)的国产半导体设备公司不斷(duan)完善产品的平台化布(bu)局,可服(fu)務(wu)市场规模快速扩张,远期收入空间不断打开。与此同时,以拓荊(jing)科(ke)技、华海清(qing)科、芯源微、万业企(qi)业等为代表国产半导体设备公司在各自专长的领域内已占据了领先(xian)的供应份额,不断夯(hang)實(shi)技术和市场壁垒。

北方华创为国内规模最大的半导体设备龍(long)頭(tou),公司产品包(bao)括(kuo)刻蚀机、PVD、ALD、LPCVD、氧(yang)化/扩散(san)爐(lu)、单片退(tui)火(huo)设备、单片清洗(xi)机以及槽(cao)式(shi)清洗机等,覆盖刻蚀、薄(bo)膜(mo)、扩散、清洗四(si)大工艺模塊(kuai),其中刻蚀设备中以硅刻蚀和金(jin)屬(shu)刻蚀机为主,并且在PVD领域擁(yong)有国内首(shou)台55-28nmTIN濺(jian)射(she)机台,达到国内领先水平。刻蚀和薄膜设备的市场占半导体设备投(tou)资比重约50%,因此公司将充分受益(yi)于晶圆产线的密集建设潮(chao)。

拓荆科技是国内薄膜沉积设备龙头企业,专註(zhu) PECVD、SACVD、ALD设备领域。公司客户资源優(you)質(zhi),与中芯国際(ji)、华虹(hong)集團(tuan)、长江(jiang)存(cun)儲(chu)、长鑫(xin)存储、廈(sha)門(men)聯(lian)芯、燕(yan)東(dong)微电子等国内主流(liu)晶圆厂长期深度合作;设备工艺覆盖面广,核心产品PECVD 设备已適(shi)配180-14nm邏(luo)輯(ji)芯片、19/17nmDRAM及64/128 层FLASH制造工艺需求,关鍵(jian)性能參(can)数比肩(jian)国际龙头;同时,公司募(mu)投 10 亿用于扩大产能以及进一步(bu)加碼(ma)先进制程 PECVD/SACVD/ALD 设备的研发,維(wei)持自身(shen)在先进制程技术的优势,有望引领薄膜沉积设备国产化持续崛(jue)起。返(fan)回(hui)搜(sou)狐(hu),查(zha)看更多

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