网站的广告创意

如何写出创意吸引人的网站广告

一个好的广告创意可以吸引更多的潜在客户,提高销售额。在网络时代,网站广告已经成为企业宣传的重要渠道。但是,如何写出创意吸引人的网站广告呢?我们为您提供以下几点建议。

创意吸引人的网站广告

1. 突出特点

广告的目的是吸引潜在客户,使其了解并购买产品或服务。因此,在撰写广告时,要突出产品或服务的特点。针对不同的目标客户,可以从不同的特点入手,比如价格实惠、服务周到、效果显著等等。在表达时,可以用生动形象的语言来描述,吸引目标客户的注意力,激发购买欲望。

突出产品特点

2. 引用真实案例

客户对于产品或服务的实际效果非常关注。因此,在广告中引用真实的案例会起到很好的效果。可以将其他客户对产品或服务的评价摘录下来,并结合具体的数据来说明产品或服务的实际效果。这样不仅可以提高广告的可信度,还可以让潜在客户更深入地了解产品或服务。

引用真实案例

3. 突出差异化

在同质化的市场环境中,产品或服务的差异化是吸引客户的关键。因此,在广告中突出产品或服务的独特之处是非常重要的。可以将产品或服务的差异化特点进行对比,突出自己的优势。比如,在保险产品中,可以突出自己的服务体验、赔付速度等方面的优势,吸引更多的潜在客户。

突出差异化

总之,在撰写网站广告时,要突出产品或服务的特点,引用真实案例,突出差异化,以吸引更多潜在客户。同时,要注意遵守中国广告法,不得夸大产品或服务的效果,避免违反法规。

结论

写出创意吸引人的网站广告需要多方面的考虑。通过突出产品或服务的特点,引用真实案例,突出差异化等方式,可以吸引更多潜在客户,提高销售额。同时,还需要注意遵守中国广告法,不得夸大产品或服务的效果,避免违反法规。

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在(zai)芯片制(zhi)造(zao)的過(guo)程(cheng)中(zhong),其(qi)它(ta)是需(xu)要(yao)兩(liang)種(zhong)光刻机的,壹(yi)种是前(qian)道(dao)光刻机,就(jiu)是將(jiang)光掩(yan)膜(mo)板(ban)上(shang)的電(dian)路(lu)圖(tu),記(ji)錄(lu)到(dao)塗(tu)了(le)光刻膠(jiao)的晶(jing)圓(yuan)上的光刻机,因(yin)為(wei)這(zhe)是前道工(gong)序(xu),所(suo)以(yi)稱(cheng)之(zhi)为前道光刻机。

還(hai)有(you)一种是後(hou)道光刻机,用(yong)於(yu)芯片后期(qi)的封(feng)裝(zhuang),在芯片制造过程中,屬(shu)于后道工序,所以叫(jiao)后道光刻机。

前道光刻机對(dui)光刻机的精(jing)度(du)要求(qiu)非(fei)常(chang)高(gao),所以會(hui)有按(an)精度分(fen)的DUV、EUV等(deng)光刻机。而(er)后道光刻机雖(sui)然(ran)重(zhong)要,但(dan)要求不(bu)一樣(yang),主(zhu)要是進(jin)行(xing)2.5D\3D先(xian)进封装的光刻机,所以相(xiang)对要求会低(di)一些(xie),所以當(dang)前大(da)家(jia)更(geng)關(guan)註(zhu)的是前道光刻机。

而前道光刻机方(fang)面(mian),自(zi)然ASML是老(lao)大,畢(bi)竟(jing)EUV光刻机,只(zhi)有ASML能夠(gou)生产,而国內(nei)自研(yan)的前道光刻机,分辨(bian)率(lv)顯(xian)示(shi)还是90nm的。

那(na)麽(me)問(wen)題(ti)就來(lai)了, 国产90nm的前道光刻机,究(jiu)竟能够生产几纳米的芯片,是不是就只能是90nm了?

事(shi)實(shi)上並(bing)不是的,在一些晶圆廠(chang)的实際(ji)測(ce)試(shi)中,在精度方面,90nm肯(ken)定(ding)沒(mei)问题的,同(tong)時(shi)經(jing)过两次(ci)曝(pu)光,可(ke)以得(de)到45nm的芯片,三(san)次曝光最(zui)高可以達(da)到22nm左(zuo)右(you)的水(shui)平(ping)。

那么有没有可能繼(ji)續(xu)进行第(di)4次曝光,然后就实現(xian)了11nm,再(zai)进行第5次曝光,然后实现10nm以下(xia)呢(ne)?理(li)論(lun)上可以,但实际不行。

在测试中,进行到第三次曝光时,晶圆的良(liang)率已(yi)经降(jiang)低到了一個(ge)相当低的值(zhi),甚(shen)至(zhi)有时候(hou)会低于20%了。如(ru)果(guo)进行第四(si)次曝光,估(gu)計(ji)良率会低到離(li)譜(pu),至于第五(wu)次、第六(liu)次,根(gen)本(ben)不用想(xiang)了,良率会接(jie)近(jin)于0%。

目(mu)前像(xiang)ASML的DUV光刻机,一般(ban)最多(duo)也(ye)只进行两次曝光,很(hen)少(shao)进行多次曝光,因为会大幅(fu)度的降低良率,造成(cheng)成本上升(sheng),这是得不償(chang)失(shi)的。

據(ju)称,目前国内正(zheng)在研發(fa)28nm精度的光刻机,那么经过2次曝光后,能够达到14nm,然后可以嘗(chang)试性(xing)的进行第三次曝光,然后有可能邁(mai)入(ru)7nm。

当然,以上只是猜(cai)测,因为精度越(yue)高的光刻机,多次曝光的難(nan)度也就越高了,一切(qie)还得看(kan)真(zhen)机的实测才(cai)行。

所以,我(wo)們(men)还是期待(dai)一下国内科(ke)技(ji)企(qi)業(ye)能早(zao)日(ri)攻(gong)克(ke)EUV光刻机的技術(shu)难點(dian),这样才能盡(jin)早徹(che)底(di)解(jie)決(jue)芯片“卡(ka)脖(bo)子(zi)”的问题了,而不是想著(zhe)多次曝光这种取(qu)巧(qiao)的、以良率換(huan)工藝(yi)的辦(ban)法(fa)。返(fan)回(hui)搜(sou)狐(hu),查(zha)看更多

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发布于:山西临汾曲沃县