广告创意平面图

什么是广告创意平面图?

广告创意平面图就是广告设计师使用图像和文字来呈现广告概念的一种形式。它通常包含广告的主题、信息、产品和品牌,以及通过视觉方式传达的情感和感觉。

广告创意平面图

广告创意平面图是一种非常重要的广告工具。它能够帮助广告公司、品牌和营销团队更好地传达他们的概念和信息,同时也能够吸引观众的眼球,让他们对广告产生兴趣和共鸣。

广告创意平面图的设计原则

设计一个好的广告创意平面图并不容易,需要遵循一些基本的设计原则,才能让广告更有效地传达信息。

广告设计

1. 重点突出

广告的设计应该突出产品或品牌的主要信息,这样能够吸引更多观众的目光,让他们更容易地记住产品或品牌。

2. 创意独特

广告创意平面图应该具有独特性,能够让观众觉得这是一个与众不同的广告,从而产生强烈的印象。

3. 色彩搭配

广告的色彩应该搭配得当,能够吸引人的眼球,同时也要能够与品牌的形象和主题相符合。

4. 简洁明了

广告的设计要简洁明了,不要过于复杂,这样才更容易吸引观众的注意力。

广告创意平面图的应用

广告创意平面图的应用非常广泛,除了传统的平面广告,还有很多其他的应用。

广告应用

1. 数字广告

数字广告是广告创意平面图的一种应用形式,可以通过社交媒体、网站和APP等渠道来进行传播。

2. 宣传海报

广告创意平面图也可以用于宣传海报的设计,可以在商场、街头、地铁等地方进行展示。

3. 品牌形象设计

广告创意平面图也可以用于品牌形象设计,包括标志、名片、信封等等。

结论

广告创意平面图是一种非常重要的广告工具,它能够帮助广告公司、品牌和营销团队更好地传达他们的概念和信息,同时也能够吸引观众的眼球,让他们对广告产生兴趣和共鸣。在设计广告创意平面图时,需要遵循一些基本的设计原则,如重点突出、创意独特、色彩搭配和简洁明了等。广告创意平面图的应用非常广泛,包括数字广告、宣传海报和品牌形象设计等。通过合理的设计和应用,广告创意平面图能够帮助品牌更好地传达信息,提高品牌知名度和用户忠诚度。

广告创意平面图随机日志

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眾(zhong)所(suo)周(zhou)知(zhi),在(zai)芯(xin)片(pian)制(zhi)造(zao)過(guo)程(cheng)中(zhong),光刻胶是(shi)壹(yi)項(xiang)非(fei)常(chang)重(zhong)要(yao)的(de)材(cai)料(liao)。

因(yin)為(wei)芯片進(jin)行(xing)光刻工(gong)藝(yi)時(shi),就(jiu)是利(li)用(yong)投(tou)影(ying)原(yuan)因,光線(xian)將(jiang)芯片電(dian)路(lu)圖(tu),照(zhao)射(she)在塗(tu)了(le)光刻胶的矽(gui)晶(jing)圓(yuan)片上(shang),然(ran)後(hou)光刻胶見(jian)光就會(hui)發(fa)生(sheng)變(bian)化(hua)。

與(yu)光刻機(ji)對(dui)應(ying),光刻胶也(ye)按(an)工艺劃(hua)分(fen),有(you)g线、i线、KrF、ArF、EUV這(zhe)麽(me)5種(zhong)。

g线、i线主(zhu)要用於(yu)250nm以(yi)上工艺,KrF一般(ban)用于250nm-130nm工艺,ArF一般用于130nm-14nm,而(er)EUV用于EUV光刻工艺,主要用于7nm以下(xia)工艺。

国內(nei)g线、i线、KrF工艺上能(neng)夠(gou)生产光刻胶,但(dan)自(zi)給(gei)率(lv)不(bu)高(gao),g线、i线在20-30%左(zuo)右(you),而KrF在5-10%左右。ArF在2022年(nian)前(qian)国内自给率基(ji)本接(jie)近(jin)于0,至(zhi)于EUV就想(xiang)都(dou)沒(mei)想了,目(mu)前全(quan)球(qiu)僅(jin)日本能够生产EUV光刻胶。

從(cong)全球光刻胶市(shi)場(chang)來(lai)看(kan),日本掌(zhang)握(wo)最(zui)領(ling)先(xian)的光刻胶配(pei)方(fang)和(he)工艺,東(dong)京(jing)应化、JSR、富(fu)士(shi)、信(xin)越(yue)化學(xue)、住(zhu)友(you)化学等(deng)日本廠(chang)商(shang)占(zhan)據(ju)80%以上市场份(fen)額(e)。

这樣(yang)的情(qing)況(kuang),对中国芯的发展(zhan),當(dang)然非常不利,所以隨(sui)著(zhe)国产芯片大(da)发展,供(gong)应鏈(lian)也是集(ji)體(ti)突破,所以这幾(ji)年国内也有几家(jia)光刻胶企(qi)業(ye),在向(xiang)ArF发起(qi)沖(chong)擊(ji),想要在14nm及(ji)以上的工艺上實(shi)現(xian)0的突破,打破国外(wai)垄断。

2022年就有好(hao)几家企业表(biao)示(shi),自己(ji)生产的ArF光刻胶,已經(jing)实现了60nm、45nm等工艺的覆盖,並(bing)且(qie)接到(dao)了訂(ding)單(dan)等。

而6月(yue)2日,国产光刻胶大厂南(nan)大光电在互(hu)動(dong)平(ping)臺(tai)上稱(cheng),公(gong)司(si)開(kai)发了多(duo)款(kuan)ArF光刻胶在下遊(you)客(ke)戶(hu)處(chu)驗(yan)證(zheng),制程覆盖28nm~90nm。

很(hen)明(ming)顯(xian),南大光电再(zai)次(ci)打破了国外垄断,畢(bi)竟(jing)28nm工艺的光刻胶,之(zhi)前国内是完(wan)全生产不出(chu)来的,只(zhi)能从日本进口(kou)。

目前美(mei)国正(zheng)在逆(ni)全球化,聯(lian)手(shou)日本、荷(he)蘭(lan)等,对中国半(ban)導(dao)体产业进行打壓(ya),所以半导体供应链安(an)全至關(guan)重要,光刻胶作(zuo)为半导体产业核(he)心(xin)原材料,技(ji)術(shu)壁(bi)壘(lei)高,原料自主可(ke)控(kong)尤(you)为关鍵(jian)。

希(xi)望(wang)更(geng)多的厂商,能够在光刻胶、光刻机等等設(she)備(bei)和材料上,不断的突破,打破国外的垄断,讓(rang)国外無(wu)法(fa)卡(ka)我(wo)們(men)的脖(bo)子(zi)。

同(tong)时国产晶圆厂,也应該(gai)努(nu)力(li)的加(jia)強(qiang)与国产供应链的合(he)作,及时試(shi)用产品(pin),加快(kuai)产品验证与导入(ru)速(su)度(du),给国产供应链以更好的成(cheng)長(chang)環(huan)境(jing)和基礎(chu)。返(fan)回(hui)搜(sou)狐(hu),查(zha)看更多

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发布于:黑龙江省绥化望奎县